问答题
Poly(多晶硅)栅极形成的步骤大致可分为那些?
①Gate oxide(栅极氧化层)的沉积;②Poly film的沉积及SiON(在光刻......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
问答题 一般的离子注入层次(Implant layer)工艺制造可分为那几道步骤?
问答题 一般的阱区离子注入调整电性可分为那三道步骤? 功能为何?
问答题 在STI的形成步骤中有一道liner oxide(线形氧化层), liner oxide 的特性功能为何?