问答题
半导体工艺中常用的三种CVD反应器类型
APCVD：常压化学气相淀积 LPCVD: 低压化学气相淀积 PECVD：等离子增强型化学气相淀积
名词解释 过刻蚀
名词解释 负载效应
问答题 简述IC芯片工艺过程中包括的刻蚀工艺过程
