单项选择题
将密封环端面重新研磨、抛光可消除()
A.轴套与转轴之间的泄漏B.摩擦副端面之间的泄漏C.机体与压盖结合端面之间的泄漏D.补偿环辅助密封圈的泄漏
单项选择题 磺酸盐装置发生晃电事故后,处理目标不包括()
单项选择题 磺酸盐装置发生晃电事故后,所采取的操作不正确的是()
单项选择题 以下不属于磺酸盐装置晃电事故现象的是()