填空题
半导体材料的缺陷主要有()
点缺陷、位错、层错、孪晶
填空题 集成电路用单晶硅的主要制备方法是()
填空题 摩尔定律的主要内容是()。
填空题 ()和()是半导体器件的最常用掺杂方法。()、()是Si常用的施主杂质;()是Si常用的受主杂质;()是GaAs常用的P型掺杂剂;()是GaAs常用的N型掺杂剂。