问答题
哪种化学气体通常用来刻蚀多晶硅，为什么这种化学气体替代了氟基化学气体？
氯气、溴气、氯/溴气原因：因为氟基气体的刻蚀是各向同性的并且对光刻胶的选择比一般，为了避免击掉下一层的氧化物......
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问答题 描述平板反应器。
问答题 二氧化硅，铝，硅和光刻胶刻蚀分别使用什么化学气体来实现干法刻蚀？
问答题 列出在干法刻蚀中发生刻蚀反应的六种方法？
