问答题
二氧化硅，铝，硅和光刻胶刻蚀分别使用什么化学气体来实现干法刻蚀？
刻蚀硅采用的化学气体为CF4/O2和CL2.刻蚀二氧化......
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问答题 列出在干法刻蚀中发生刻蚀反应的六种方法？
问答题 列举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点，干法刻蚀的不足之处是什么？
问答题 干法刻蚀有高的还是低的选择比？
