black

微电子学

登录

问答题

简答题

描述等离子体刻蚀和干法去胶的原理

【参考答案】

相关考题

问答题 描述并比较接触式光刻、接近式、投影式、步进式和电子束光刻。

问答题 掩膜版的对准法则,说明对准误差有哪些?

问答题 简述光刻胶的分类,谈谈正胶和负胶的区别。

All Rights Reserved 版权所有©在线考试题库网(zxkao.com)

备案号:湘ICP备14005140号-7

经营许可证号:湘B2-20140064