判断题 在LPCVD中，由于hG>>kS，即质量转移系数远大于表面反应速率常数，所以，LPCVD系统中，淀积过程主要是表面反应速率控制

单项选择题 下面选项属于主扩散的作用有（）。  1.调节表面浓度 2.控制进入硅表面内部的杂质总量 3.控制结深

单项选择题 不论正胶或负胶，光刻过程中都包括如下步骤： 1.刻蚀 2.前烘 3..显影 4.去胶 5.涂胶 6.曝光 7.坚膜 以下选项排列正确的是：（）。