问答题
解释曝光后烘烤的目的。PEB(曝光后烘烤)烘烤过度和不足会产生什么问题?
目的:降低驻波效应 不足:无法消除驻波效应,影响分辨率。 过度:造成光刻胶的聚合作用,影响显影过程,导致图形转移失败。
问答题 软烘烤的目的是什么?列出烘烤过度和不足会产生什么后果?
问答题 简述光刻工艺的8道工序
问答题 列出4种曝光技术,并说明那种分辨率最高,说明各种曝光技术的优缺点。