问答题
离子注入的主要缺点是什么？如何克服？
1、高能杂质离子轰击硅原子将对晶体结构产生损伤。（高温退火进行修复）。2、注入设备的复杂性。（被注入机对剂量......
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问答题 列举离子注人优于扩散的7点。
问答题 离子注入通常在什么工艺之后？
问答题 列举用于硅片制造的5种常用掺杂。
