问答题
述集成电路的常规掩模版制备的工艺流程。
硅平面晶体管或集成电路掩模版的制作，一般地讲，要经过原图绘制（包括绘总图和刻分图）、初缩、精缩兼分步重复、复印阴版和复印......
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问答题 光刻技术中的常见问题有那些？
问答题 试简述硅集成电路平面制造工艺流程中常规光刻工序正确的工艺步骤。
问答题 什么是光刻，光刻系统的主要指标有那些？
