问答题
光学光刻技术的改进有哪些方面？
1.减小紫外线光源波长；2.提高光学光刻工具的数值孔径；3.化学放大深紫外光刻胶；4......
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问答题 为什么要进行显影后检查？
问答题 解释光刻胶选择比，要求的比例是高还是低？
问答题 使用什么材料制作投影掩膜板，投影掩膜板上形成图形的不透明材料是什么？
