问答题
离子注入工艺和扩散工艺相比的优点
温度低，使用PR遮蔽层（扩散硬遮蔽层），非等向性掺杂轮廓，可独立控制掺杂浓度和结深，批量及单晶圆工艺（扩散为单晶圆工艺）
名词解释 平均自由程
名词解释 分解碰撞
名词解释 激发-松弛碰撞
