问答题
热生长氧化物和CVD氧化物的本质区别是什么？
生长的薄膜与消耗的硅衬底，淀积的薄膜不消耗硅衬底。热生长的二氧化硅来自气相氧，硅来自衬底，当薄膜生长进入衬底时，这个过程......
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问答题 半导体工艺中常用的三种CVD反应器类型
名词解释 过刻蚀
名词解释 负载效应
