问答题
说明用于硅中扩散常见的固态、液态、气态源。
问答题 描述等离子体刻蚀和干法去胶的原理
问答题 描述并比较接触式光刻、接近式、投影式、步进式和电子束光刻。
问答题 掩膜版的对准法则,说明对准误差有哪些?