问答题
离子注入掺杂的优点是什么?写出CMOS集成电路制备工艺中用到的离子注入。
问答题 什么是含Cl氧化,含Cl氧化的好处是什么?
填空题 单晶硅太阳能电池采用()表面来增加表面积,用沉积Si3N4作()膜来降低入射光的反射,用在扩散层表面氧化生长()nm的钝化层,改变表面层硅原子价键失配,减少表面复合,提高短路电流。用PECVD法沉积Si3N4时,反应中大量的原子H可以降低钝化层与表层硅界面的()
填空题 圆筒式等离子刻蚀的(),适用于()工艺;反应离子刻蚀,(),可以用通入不同的工艺气体,实现好的选择性,适合于对()和()的刻蚀。