填空题
浅结制备的常用方法是：（）、（）加（）。而（）型浅结比（）型浅结更难制备。P型浅结常用（）、（）、（）来获得。
降低注入离子能量；分子离子注入；快速热退火；P；n；BF2+离子替代B+注入；降低B+注入能量；硅注入表面预非晶化
填空题 为了降低注入离子对衬底由于热沉积产生的温升，在高剂量、大束流离子注入时，可以采用（）扫描方式，在低剂量、小束流时一般用（）方式注入。
填空题 离子注入机的对Si衬底作P型掺杂的源气常用（），N型掺杂的源气常用（）和（）。对GaAs做N型掺杂的源气常用（）
填空题 （）称为沟道效应，可以用（）、（）和（）来避免。其中，（）是最常用的方法。
