填空题
光学光刻机的主要曝光光线的是波长为（）的g线和（）的i线，适合1微米以上特征尺寸的光刻。常用（）的KrF和（）的ArF准分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。
436nm；365nm；248nm；193nm
填空题 光学光刻机主要有（）等几种。非光学光刻机主要有（）。
填空题 光刻工艺的主要工序有：（）组成。
填空题 快速热处理设备（RTP）的主要热交换机制是（），常用热源是（）。RTP的主要优点是 （）。
