填空题
光刻胶的三种主要成分是：（）。正胶的感光剂是（），曝光使其（），正胶的曝光区在显影后（）； 曝光使负胶的感光剂（），使曝光区在显影后（）。
感光剂、基体材料和溶剂；重氮醌；长链分子断裂；去除；交联；保留
填空题 光学光刻机的主要曝光光线的是波长为（）的g线和（）的i线，适合1微米以上特征尺寸的光刻。常用（）的KrF和（）的ArF准分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。
填空题 光学光刻机主要有（）等几种。非光学光刻机主要有（）。
填空题 光刻工艺的主要工序有：（）组成。
